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我國芯片制造設備又取得了新突破

來源: | 發(fā)布日期:2021-04-05 瀏覽量:

       近日,根據媒體最新報道,我國制造的芯片關鍵設備又取得了突破。中國電子科技集團有限公司17日宣布,一系列卡死 技術已攻克了。 大功率EUV光源是EUV光刻機的核心基礎。隨著芯片制程節(jié)點的不斷縮小,對 EUV光源的需求將繼續(xù)增加,達到千瓦級?;?/span>SSMBEUV光源可實現(xiàn) 平均功率,并突破到更短的波長,這為突破大功率EUV光源提供了新的解決方案。

   在2019年鐵桿中國核心大片評選活動,超過 100 家國產芯片公司積極參與了評選?,F(xiàn)在,讓我們全方位展示這些優(yōu)秀的國產各種核心產品和企業(yè),并為中國核心的發(fā)展投下寶貴的一票!自今年5月再次收緊條規(guī)定以來,已經過去了幾個月,而臺積電( TSMC)未能制造芯片條也已經過去。隨著時間的流逝,主要的芯片家制造商也進入了停產華為的倒計時階段,因為在 9 15日停產華為之前只剩下了很少的時間,而且華為面臨著非常緊迫的挑戰(zhàn)

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